ماسکهای لیتوگرافی
برای اغلب فعالیتها در ریزفناوری، لیتوگرافی (تکنیکی که در آن کپی نمونه مادر روی سطح یک ماده جامد مانند ویفر منتقل میشود) از اهمیت ویژهای برخوردار است. الگوی یک تراشه میکرونی یا نانو با کمک فرآیندی به نام لیتوگرافینوری، بر روی بستر/زیرلایه منتقل میشود. در ابتدا بستر با لایهی نازکی از مادهی آلی حساس به نور به نام فتورزیست پوشانده میشود. سپس الگو با بستر همراستا و با استفاده از یک منبع نور مانند Deep UV بر روی بستر، تابانده میشود. در نهایت، تصویر حاصل مانند فیلم عکاسی ظاهر و بازرسی میشود. کار ماسک، نوردهی انتخابی به لایهی فتورزیستی است که سطح ویفر را پوشانده است.
ماسک ساخته‌شده در شرکت رسا
یک ماسک از یک شیشه‌ی شفاف مانند Fused Silica، کوارتز یا Sodalime glass (جنس مورد استفاده در ساخت لامل آزمایشگاهی) ساخته شده که روی آن لایهی نازکی از کروم لایه‌نشانی شده‌است. کروم لایه‌نشانی‌شده از عبور نور جلوگیری کرده و روی آن لایه‌ای از فتورزیست (معمولاً مثبت) وجود دارد.
به‌وسیله‌ی دستگاه نوشتن ماسک، قسمت‌هایی از فتورزیست نوردهی میشود. با برداشتن لایهی فتورزیست نوردیده و انداختن ماسک در محلول زدایش‌گر کروم، قسمت‌هایی از کروم که به‌وسیله‌ی فتورزیست حفاظت نشده، برداشته میشود و شیشه‌ی شفاف زیر آن هویدا می‌گردد. به این ترتیب، نور از این قسمت‌ها با شکل الگوی ایجادشده به‌وسیله‌ی کروم، عبور خواهد کرد.
فرآیند الگونگاری بر روی ویفر
شرکت رسا دارای خدمات و فعالیتهای زیر در زمینه تهیه و ساخت ماسک است:
- تهیه ماسک خام با ابعاد مختلف (بر اساس سفارش، برای اطلاع بیشتر با شماره ۶۴۵۴۵۴۳۷-۰۲۱ تماس بگیرید)
- ایجاد الگو روی ماسک (برای ایجاد الگو، فایل نرم افزاری ماسک با شرایط مشخص شده در این لینک باید توسط متقاضی آماده و تحویل آزمایشگاه گردد. برای اطلاع بیشتر با سرپرست آزمایشگاه در این لینک تماس بگیرید)
- طراحی ماسک (در صورت عدم تسط به طراحی ماسک، شرکت رسا، سرویس طراحی ماسک را ارائه میدهد، برای اطلاع بیشتر با سرپرست آزمایشگاه در این لینک تماس بگیرید)